Los objetivos de pulverización resistentes a la alta temperatura juegan un papel clave en muchos campos de alta tecnología, especialmente en escenarios de aplicación que requieren una alta estabilidad de temperatura. La siguiente es una introducción a los 10 objetivos de pulverización de alta temperatura resistente a alta temperatura:
Objetivos de aleación de molibdeno y molibdeno
Características: El molibdeno es un metal gris plateado con un punto de fusión de hasta 2623 grados y una densidad de 10.2g/cm³. El molibdeno y sus aleaciones tienen las ventajas del alto punto de fusión, buena conductividad eléctrica y térmica, bajo coeficiente de expansión térmica, excelente resistencia a la corrosión y amistad ambiental.
Aplicación: los objetivos de aleación de molibdeno y molibdeno se han utilizado ampliamente en electrodomésticos electrónicos, células solares y recubrimiento de vidrio.
Objetivos de metal de rutenio
Características: Los objetivos de rutenio tienen buena resistencia al calor, resistencia a la corrosión y resistencia mecánica, y son adecuados para su uso en ambientes de alta temperatura, alta presión y corrosiva.
Proceso de preparación: Coloque el polvo de rutenio en el molde de grafito, compacta y póngalo en el horno de presión en caliente para la sinterización de presión caliente unidireccional. El proceso de sinterización se lleva a cabo bajo la atmósfera de gas protectora, la temperatura de sinterización es 1600-1800 grado, y la presión de sinterización es 5-20 MPA.
Aplicación: El objetivo de Ruthenium se puede utilizar para la deposición de películas delgadas de dispositivos electrónicos, así como la preparación de películas delgadas ópticas y recubrimientos ópticos.
Objetivo de pulverización de aluminio de ultra alta pureza
Características: El objetivo de aluminio tiene alta pureza y excelente conductividad, adecuada para la preparación de la capa conductora y la capa de barrera de dispositivos semiconductores.
Estado del mercado: se estima que el mercado global de aluminio de aluminio de ultra alta pureza alcanzará los US $ 380 millones en 2029, con una tasa compuesta anual del 5,6%.
Objetivo de selenuro de galio de indio de cobre (CIGS)
Características: El objetivo CIGS se utiliza principalmente en la producción de células solares de película delgada.
Aplicación: Con el rápido desarrollo de la industria solar, la demanda de CIGS objetivo también está aumentando.
Objetivo de óxido de lata de indio (ITO)
Características: los objetivos ITO se utilizan principalmente para hacer películas conductoras transparentes y se usan ampliamente en pantallas táctiles y pantallas planas.
Posición del mercado: con la creciente demanda de electrónica de consumo, la posición del mercado de los objetivos de ITO se está volviendo cada vez más importante.
Objetivo de tungsteno
Características: El tungsteno tiene un alto punto de fusión (3422 grados) y una excelente resistencia al desgaste, que es adecuada para la deposición de pulverización de materiales a alta temperatura y resistentes al desgaste.
Aplicación: los objetivos de tungsteno se usan ampliamente en semiconductores, dispositivos electrónicos y recubrimientos resistentes al desgaste.
Objetivo de titanio
Características: Los objetivos de titanio tienen una buena resistencia a la corrosión y biocompatibilidad, y son adecuados para la deposición de dispositivos y biosensores médicos.
Aplicación: con el desarrollo continuo de la tecnología médica, los objetivos de titanio tienen amplias perspectivas de aplicación en el campo de los dispositivos médicos.
Objetivo de tántalo
Características: los objetivos de tantalum tienen un alto punto de fusión (2996 grados) y una excelente estabilidad química, que son adecuadas para la deposición de materiales a alta temperatura y químicamente estables.
Aplicación: los objetivos tantalum son ampliamente utilizados en dispositivos electrónicos, industrias aeroespaciales y químicas.
Objetivos de Niobium
Características: los objetivos de Niobium tienen un alto punto de fusión (2468 grados) y excelentes propiedades superconductoras, y son adecuadas para la deposición de pulverización de materiales superconductores y dispositivos electrónicos.
Aplicación: los objetivos de Niobium se utilizan ampliamente en materiales superconductores, dispositivos electrónicos y aeroespaciales.
Características: los objetivos de circonio tienen una buena resistencia a la corrosión y biocompatibilidad, y tienen un alto punto de fusión (1852 grados), que es adecuado para la deposición de matares de corrosión resistentes y biocompatibles.
Aplicación: los objetivos de circonio se utilizan ampliamente en dispositivos médicos, equipos químicos y dispositivos electrónicos.
En resumen, los diez objetivos de pulverización resistentes a alta temperatura tienen sus propias características y se utilizan ampliamente en semiconductores, ópticas, fotovoltaicos, dispositivos electrónicos, dispositivos médicos y otros campos. Con el avance de la ciencia y la tecnología y los cambios en la demanda del mercado, la investigación y el desarrollo de estos objetivos se están moviendo hacia un mayor rendimiento, menor costo y más ecológico.