Tantalum tiene una serie de excelentes propiedades, como un alto punto de fusión, baja presión de vapor, buen rendimiento de procesamiento de frío, alta estabilidad química, fuerte resistencia a la corrosión de metal líquido y una gran constante dieléctrica de la película de óxido superficial.
NuestroHoja reflectante de tantálioestá específicamente diseñado parafabricación de semiconductoresyAplicaciones ópticas de alta precisión. Hecho deTantalum ultra alta pureza (TA mayor o igual a 99.95%), esta hoja exhibereflectividad excepcional, estabilidad de alta temperatura y resistencia a la corrosión superior, haciéndolo ideal para usar enProcesamiento de semiconductores, cámaras de vacío y sistemas de deposición de película delgada. La hoja reflectante de Tantalum juega un papel crucial en la optimización de la distribución de calor y luz, mejorando la eficiencia energética y mejorar el rendimiento general de los sistemas de producción de semiconductores.
Debido a la alta resistencia a la temperatura, al efecto de alargamiento y la resistencia a la corrosión de los materiales tantálios, los reflectores tantálios para semiconductores hechos de placas de tantalio también se llaman reflectores tantálios. Los reflectores tantalum se utilizan principalmente para reflejar las fuentes de luz en los equipos de fabricación de semiconductores, y la concentración de energía hace que el proceso de evaporación sea más estable y el efecto de evaporación sea más uniforme.
Requisitos del producto: Sin rasguños, pozos y acabado de superficie alto.
Tabla de composición química:
|
Calificación |
Contenido de elementos (%de fracción de masa) |
|||||||||||
|
C |
N |
O |
H |
Ceñudo |
Si |
NI |
Ti |
Mes |
W |
Nótese bien |
Ejército de reserva |
|
|
TA1 |
0.01 |
0.005 |
0.015 |
0.0015 |
0.005 |
0.005 |
0.002 |
0.002 |
0.01 |
0.01 |
0.05 |
Cantidad restante |
|
TA2 |
0.02 |
0.025 |
0.03 |
0.005 |
0.03 |
0.02 |
0.005 |
0.005 |
0.03 |
0.04 |
0.1 |
Cantidad restante |
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